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在镀液中添加铁氧体粒子制备Ni-Fe基磁性复合镀层是电沉积技术一个新的发展方向，目前相关研究不多。采用电沉积法在铜片上制备了Ni—Fe—NiFe2O4复合镀层，用电化学方法、金相显微镜及能谱仪研究了镀液中NiFe2O4含量、电流密度、表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）等对复合镀层性能的影响。结果表明：复合镀层硬度随镀液中NiFe2O4含量的增加先增大后减小，含量为15g／L时镀层硬度达370HV，耐蚀性最好；随电流密度增大，沉积速率加快，镀层显微硬度增加，耐蚀性略有提高；加入CTAB能提高镀层中微