【摘 要】
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为了改善氧化铈抛光液的性能,在不破坏钕玻璃表面质量的前提下提高钕玻璃的抛光效率,选择在氧化铈抛光液中加入阴离子表面活性剂雷米邦A,并研究了改性后的抛光液对氧化铈抛光
【机 构】
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上海科技大学物质科学与技术学院,上海201210;中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室,上海201800;中国科学院中国工程物理研究院高功率激光物理联合实验室,上海201800
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为了改善氧化铈抛光液的性能,在不破坏钕玻璃表面质量的前提下提高钕玻璃的抛光效率,选择在氧化铈抛光液中加入阴离子表面活性剂雷米邦A,并研究了改性后的抛光液对氧化铈抛光液中粒子粒径、钕玻璃的材料去除率和抛光后钕玻璃表面质量的影响,分析了加入不同质量分数雷米邦A的抛光液在不同pH值下对钕玻璃抛光速率和抛光质量的影响.结果 表明:雷米邦A能够抑制抛光液中纳米粒子的团聚,降低氧化铈的中位粒径,提高抛光效率.当二氧化铈质量分数为3％、pH为6.5、雷米邦A质量分数为0.30％时,材料去除率达到最大值169 nm/min;当二氧化铈质量分数为3％、pH为7、雷米邦A质量分数为0.20％时,钕玻璃的表面粗糙度达到最小值0.9 nm.
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