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介绍了用正硅酸乙酯和水混合物进行等离子体增强化学汽相淀积制备氧化硅膜的原理和工艺， 对膜质量进行了分析和讨论
TEOS-H2O等离子CVD新技术
【摘 要】
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介绍了用正硅酸乙酯和水混合物进行等离子体增强化学汽相淀积制备氧化硅膜的原理和工艺， 对膜质量进行了分析和讨论
【机 构】
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【出 处】
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半导体情报
【发表日期】
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1999年05期
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