用穆斯堡尔效应研究铁硅化合物的形成过程

来源 :红外与毫米波学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：dlf123456

【摘要】

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利用粒子束溅射的方法在纯净的Si衬底上沉积一层Fe膜,在强还原气氛下对其进行不同温度的退火处理.采用非原位的穆斯堡尔效应和X射线衍射,研究了铁硅化合物的形成过程. 实验

【作者】

：

申作成王松有游海洋杨月梅陈良尧蔡英文李爱国

【出处】

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红外与毫米波学报

【发表日期】

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2002年z1期

【关键词】

：

铁硅穆斯堡尔效应 X射线衍射. iron silicide Massbauer effect XRD.

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利用粒子束溅射的方法在纯净的Si衬底上沉积一层Fe膜,在强还原气氛下对其进行不同温度的退火处理.采用非原位的穆斯堡尔效应和X射线衍射,研究了铁硅化合物的形成过程. 实验发现,经30 min在1000℃退火情况下,可观察到α-FeSi2和β-FeSi2 同时共存的现象,分析表明,该现象来源于强还原气氛.

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