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KLA—Tencor公司日前宣布，推出采用Nano—Poin／TM技术的2910系列光学晶阋缺陷检测平台和新型eDRTM-7100电子柬品圆缺陷检查系统。为了满足集成电路制造商在先进设备上更快追踪缺陷的需要，这两款系统兼具快速和无缝接轨的优势，能够迅速发现和识别影响成品率和可靠性的缺陷。
KLA-Tencor推出新型缺陷发现与监控技术
【摘 要】
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KLA—Tencor公司日前宣布，推出采用Nano—Poin／TM技术的2910系列光学晶阋缺陷检测平台和新型eDRTM-7100电子柬品圆缺陷检查系统。为了满足集成电路制造商在先进设备上更快追踪
【出 处】
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中国集成电路
【发表日期】
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2013年9期
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