陶瓷靶材对铁电薄膜的成分,结构和性能的影响

来源 :人工晶体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hy1208

【摘要】

：

本文研究了不同烧结温度的陶瓷靶材对溅射所得到的Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ３薄膜的成分、结构和性能的影响。结果表明，由１２００℃时烧结的靶所制备的薄膜中ＰｂＯ的含量偏低，而９００℃时的薄膜中ＰｂＯ的含量却大于１；由这两种靶材

【作者】

：

黄龙波李佐宜

【机构】

：

华中理工大学固体电子学系

【出处】

：

人工晶体学报

【发表日期】

：

1995年1期

【关键词】

：

铁电薄膜性能靶材结构铁电陶瓷 ferroelectric thin film property target material structure sp

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本文研究了不同烧结温度的陶瓷靶材对溅射所得到的Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ３薄膜的成分、结构和性能的影响。结果表明，由１２００℃时烧结的靶所制备的薄膜中ＰｂＯ的含量偏低，而９００℃时的薄膜中ＰｂＯ的含量却大于１；由这两种靶材都获得了结晶性较好的多晶钙钛矿结构，但９００℃时烧结的靶所制备的铁电薄膜的结晶性能更好，具有较好的铁电性能，其典型的矫顽场和剩余极化强度分别为７３．２ｋＶ／ｃｍ和２５．９μＣ／ｃｍ＾２

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