浮动块研磨抛光机研磨磁头的表面去除分析

来源 :中南大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:ligang_nc1
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对浮动块研磨抛光机的运动学方程进行研究结果表明: 研磨时, 任意磁头上任意一点的运动轨迹是周期性的, 这种运动周期的重复性与工作圆环的角速度ω2和研磨盘的角速度ω1之比有关;当浮动块研磨抛光机在理想状态工作下时, ω1=ω2, 此时, 任意磁头上任意一点移动的路程相等, 表明磁头表面去除率相同, 但其轨迹的重复性太强. 在实际工作中, 磁头表面能取得均化的研磨条纹, 而整个研磨平面的平整精度却不一定很高;任意一点在每周期移动的路程长度与角速度ω和偏心距e有关, ω和e越大, 周期路程越长. 而周期路程较短
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