RTA处理时Si中B离子注入的扩散模拟:B增强扩散时扩散缺陷形成与退火的关系

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RTA处理时Si中B离子注入的扩散模拟:B增强扩散时扩散缺陷形成与退火的关系=Diffusionmodelingofionimplantedboroninsili-conduringRTA:correlationofextendeddefectfor... Diffusion simulation of diffusion of B ions into Si during RTA treatment: Diffusion mode deionized implanted borononinsili-conduringRTA: correlationofextendeddefectfor ...
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