【摘 要】
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用射频磁控溅射方法分别在ＮａＣｌ和Ｓｉ基底上制备了聚四氟乙烯薄膜．通过红外吸收光谱的研究分析了薄膜中的成分及分子链结构．
Teflon films were prepared on NaCl and Si substrates b
【机 构】
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中国科学院固体物理研究所,苏州大学物理系
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用射频磁控溅射方法分别在ＮａＣｌ和Ｓｉ基底上制备了聚四氟乙烯薄膜．通过红外吸收光谱的研究分析了薄膜中的成分及分子链结构．
Teflon films were prepared on NaCl and Si substrates by RF magnetron sputtering. By infrared absorption spectroscopy analysis of the film composition and molecular chain structure.
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