【摘 要】
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用主器型电导仪实现了ＫＤＰ晶体生长过程中溶液的浓度和过饱和度的实时测量与控制，测量精度±０．０３gKDP/100gH2O（±０．１０％相对过饱和度），控制精度与测量精度相当，过饱和度实时控制系统提供
【基金项目】
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国家863惯性约束聚变领域资助课题
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用主器型电导仪实现了ＫＤＰ晶体生长过程中溶液的浓度和过饱和度的实时测量与控制，测量精度±０．０３gKDP/100gH2O（±０．１０％相对过饱和度），控制精度与测量精度相当，过饱和度实时控制系统提供了一种方法，可以研究在不同工艺条件生长ＫＤＰ晶体时，过和度与晶体生长和性能的关系。用分析纯原料生长ＫＤＰ晶体，发现随着过饱和度的增大，晶体的生长速度加快，晶体的均性降低，过饱和度实时控制系统可以使ＫＤＰ晶体在相对恒定的过饱和度下生长，提高了晶体生长的均匀性，抑制了生长层和散射颗粒的产生，有利
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