【摘 要】
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Ion beam sputtering profiling in combination with SIMS technique was employed toinvestigate the Al diffusion in Fe_(78)Si_0B_(13)amorphous alloy.Between 320 an
【出 处】
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Acta Metallurgica Sinica(English Edition)
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Ion beam sputtering profiling in combination with SIMS technique was employed toinvestigate the Al diffusion in Fe_(78)Si_0B_(13)amorphous alloy.Between 320 and 380℃,thediffusion coefficients vary from 2.43×10~(-22) to 2.01×10~(-21)m~2s~(-1),and an Arrheniusrelationship was established as:D_0=2.02×10~_(12)exp(-1.17/kT)
Ion beam sputtering profiling in combination with SIMS technique was employed to investigate the Al diffusion in Fe_ (78) Si_0B_ (13) amorphous alloy. Bathween 320 and 380 ℃, the diffusivity varied from 2.43 × 10 ~ (-22) to 2.01 × 10 ~ (-21) m ~ 2s ~ (-1), and an Arrheniusrelationship was established as: D_0 = 2.02 × 10 ~ (12) exp (-1.17 / kT)
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