【摘 要】
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掩模版,也称光罩,是集成电路制造中光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩模图形,并通过曝光将图形转印到产品基板上,是光刻工艺中最重要的耗材之一,其质量很大程度上决定了集成电路最终产品的质量。掩模版是高度标准化的产品,目前我国掩模版标准化工作还处于起步阶段。随着我国产业的发展壮大,为掩模版标准填补空白创造了条件。本文从掩模版产业体系发展现状和趋势出发,结合标准现状梳理分析,提
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掩模版,也称光罩,是集成电路制造中光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩模图形,并通过曝光将图形转印到产品基板上,是光刻工艺中最重要的耗材之一,其质量很大程度上决定了集成电路最终产品的质量。掩模版是高度标准化的产品,目前我国掩模版标准化工作还处于起步阶段。随着我国产业的发展壮大,为掩模版标准填补空白创造了条件。本文从掩模版产业体系发展现状和趋势出发,结合标准现状梳理分析,提出了掩模版标准成体系化发展的思路和建议。
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目的:研究探索太乙神针实按灸联合针刺对中风后下肢运动功能障碍的临床疗效。为太乙神针实按灸联合针刺对中风后下肢运动功能障碍的临床运用提供理论依据。方法:选60例符合本研究的患者,按随机数字表法分为治疗组(太乙神针实按灸联合针刺组,30例)和对照组(普通针刺组,30例),两组患者均给予相对应的基础疾病治疗,共治疗30日。观察太乙神针实按灸联合针刺组和普通针刺组在治疗前与治疗后下肢运动功能评分(FMA-
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