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利用带有矮秆基因的保持系与恢复系杂交选育出特矮秆恢复系吉R109。该恢复系株高90cm,生育期108d,株型好,叶窄且上冲,获得国家发明专利(ZL2015 10725052.X)。利用吉R109组配出矮秆早熟高粱杂交种吉杂141,耐密植,种植密度突破30万株/hm^2,已大面积应用于生产。