半导体生产中细微线路高可靠性技术开发

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为了达到封装芯片问细微线路高可靠性连接,开发了在有机绝缘膜上加成法工艺,形成L/S=1μm/1μm的铜细线路,并经过了高可靠性验证。目前为防止制的腐蚀扩散实现高可靠性,有金属覆盖阻隔线路结构,成功满足L/S=1μm/1μm线路可靠性要求。这个覆盖阻隔层是CoWP膜,防止铜线路腐蚀。
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