【摘 要】
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We report the reduced-strain gallium-nitride (GaN) epitaxial growth on (0001) oriented sapphire by using quasi-porous GaN template. A GaN film in thickness of a
【机 构】
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Key Laboratory of Material Physics, Institute of Solid State Physics, Chinese Academy of Sciences, H
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We report the reduced-strain gallium-nitride (GaN) epitaxial growth on (0001) oriented sapphire by using quasi-porous GaN template. A GaN film in thickness of about 1μm was initially grown on a (0001) sapphire substrate by molecular beam epitaxy. Then it was dealt by putting, into 45% NaOH solution at 100°C for Wmin. By this process a quasi-porous GaN Rim was formed. An epitaxial GaN layer was grown on the porous GaN layer at 1050°C in the hydride vapour phase epitaxy reactor. The epitaxial layer grown on the porous GaN is found to have no cracks on the surface. That is much improved from many cracks on the surface of the GaN epitaxial layer grown on the sapphire as the same as on GaN buffer directly.
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