【摘 要】
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随着集成电路技术节点的缩小,需要开发一种具有高去除速率低碟形凹陷的铜化学机械抛光液,而且对抛光后的残留,腐蚀和微划伤等表面缺陷的要求也更严格。这是一种具有优异性能
【基金项目】
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国家科技重大专项课题（20112X02704-001,2016ZX02301003-004-002）
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随着集成电路技术节点的缩小,需要开发一种具有高去除速率低碟形凹陷的铜化学机械抛光液,而且对抛光后的残留,腐蚀和微划伤等表面缺陷的要求也更严格。这是一种具有优异性能的铜化学机械抛光液。研究了抛光液配方对抛光性能包括去除速率和轮廓,静态腐蚀速率,碟形凹陷,铜残留物的清除能力和铜腐蚀状况的影响。电化学方法也被用来研究和支持这些抛光结果和性能。通过优化配方和抛光工艺,该铜化学机械抛光液能在〉0.9μm/min的去除速率下获得约300？的碟形凹陷。
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