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提出了电子束真空辐射固化技术新概念,并对该技术的固化机理等进行了阐述.通过对液态低聚物辐射固化条件和SDS-Ⅱ型曝光机的加速电压、曝光剂量等曝光参数的分析研究,得出SDS-Ⅱ型曝光机可以用于液态低聚物辐射固化的结论.在此基础上使用SDS-Ⅱ型曝光机在20 kV的加速电压、2μC/cm2的曝光剂量下,对经真空挥发处理过的三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)液态低聚物进行了曝光试验,得到了固化结构.基本上证明了电子束真空辐射固化液态低聚物的可行性,为微机电三维微结构的加工提供了一种新方法.