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以光催化活性高的多酸阴离子CeW10O369-、不同结构阳离子表面活性剂为构筑基元,通过水/氯仿两相静电包埋技术制备了一系列表面活性剂@多酸复合物,并利用傅里叶红外光谱(FTIR)、热重分析(TGA)对复合物的组成及结构进行分析;以甲基橙为光催化降解底物分子、表面活性剂@多酸复合物为催化剂,考察不同表面活性剂、催化剂用量、甲基橙浓度、有机染料对光催化降解率的影响;不同表面活性剂@稀土多酸复合催化剂的光催化活性顺序为DTAB(十二烷基三甲基溴化铵)@CeW10>TTAB(十四烷基三甲基溴化铵)@CeW