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利用紫外-可见光谱仪对直流磁控反应溅射工艺参数对SnO2:Sb薄膜光学带隙的影响进行了研究.结果表明:SnO2:Sb薄膜的光学带隙随着溅射功率的增加而减小,随着氧气分压的增加而增大,随着退火温度的增加而增大.同时,工艺参数还对薄膜的其它性质有影响.
直流磁控反应溅射工艺参数对SnO2:Sb薄膜光学带隙的影响
【摘 要】
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利用紫外-可见光谱仪对直流磁控反应溅射工艺参数对SnO2:Sb薄膜光学带隙的影响进行了研究.结果表明:SnO2:Sb薄膜的光学带隙随着溅射功率的增加而减小,随着氧气分压的增加而增
【机 构】
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武汉理工大学硅酸盐实验室
【出 处】
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河南建材
【发表日期】
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2004年4期
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