【摘 要】
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本文描述了用硅的各向异性择优选择腐蚀与金属剥离技术相结合,研制软 x 射线光刻用的金-硅掩模的基本实验结果。
This paper describes the basic experimental results of
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本文描述了用硅的各向异性择优选择腐蚀与金属剥离技术相结合,研制软 x 射线光刻用的金-硅掩模的基本实验结果。
This paper describes the basic experimental results of developing a gold-silicon mask for soft x-ray lithography by combining anisotropic selective etching of silicon with metal striping techniques.
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