高能激光对成像制导系统的干扰效果分析

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为了分析高能激光对成像制导系统的干扰效果,从制导武器的红外辐射强度出发,介绍了成像制导干扰效果评估的两种基本方法。以对比度评估方法为例,模拟了不同干扰强度、不同干扰质心激光干扰条件下成像制导系统的跟踪效果。结果表明对成像型制导系统实施有效激光干扰的手段主要有两个:一是增加激光干扰源的激光功率;二是激光干扰质心要尽可能地远离目标质心。
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