【摘 要】
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利用光刻技术和湿法刻蚀技术制备ITO透明电极,借助视频显微仪和台阶仪观测电极形状和表面形貌。比较了不同溶液的刻蚀效果,指出采用盐酸加三氯化铁溶液刻蚀效果最佳,分别讨论
【机 构】
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福州大学物理与信息工程学院光电显示技术研究所
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利用光刻技术和湿法刻蚀技术制备ITO透明电极,借助视频显微仪和台阶仪观测电极形状和表面形貌。比较了不同溶液的刻蚀效果,指出采用盐酸加三氯化铁溶液刻蚀效果最佳,分别讨论了HCl含量和FeCl3含量变化对ITO膜刻蚀速率的影响。最后指出在25±2℃的环境下,刻蚀液HCl、H2O和FeCl3.6H2O的配比满足3L∶1L∶(20～30g)时,ITO膜的刻蚀速率能达到1nm/s,所制备的透明电极边缘整齐无钻蚀,适合于制备平板显示器中的透明精细电极。
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