薄膜工艺陶瓷基板面铜均匀性改善工艺研究

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利用薄膜工艺在陶瓷表面得到铜薄膜,并利用电镀工艺对薄膜进行加厚。同时,针对电镀铜厚的不均匀性,通过调整镀液成分、缩短阳极排列长度,调整钛篮间距并改善电力线分布等电镀工作条件,使Top面铜厚极差由19.24μm降至10.32μm,CPK由0.78升至1.59。Bot面铜厚极差由18.12μm降至11.43μm,CPK由0.88升至1.79,极大地改善了电镀铜厚的均匀性,增加了陶瓷表面精细线路制作的可能性,为有覆晶/共晶工艺要求的LED光学器件提供了具备良好平整度、共面度及光洁度的高效散热载体。
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