TiO2薄膜超精密抛光技术综述

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高质量且表面粗糙度为纳米级的TiO2薄膜具有优良的光学减反作用,可作为像增强器输入窗的光学减反膜。化学机械抛光(CMP)技术是目前唯一可以实现全局化纳米级抛光的方法。要达到纳米级表面粗糙度,CMP技术的软硬件条件都十分重要。本文主要介绍了CMP技术的硬件条件,包括抛光机、抛光液和抛光垫,及其国内外技术对比,并介绍了目前国内TiO2薄膜CMP技术的研究现状。
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