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本文研究了和SVG-18DWC双面擦片机刷洗经RCA工艺清洗后的硅单晶抛光片表面。结果表明:经SVG-18DWC双面擦片机刷洗后,抛光片的表面颗粒有明显的减少,经WISCR-80测试Φ100mm的抛光片,表面大于0.3μm的颗粒总数小于10个片,而抛光片表面的部分金属杂质沾污有明显的增加。