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提出采用掩模法的质子LIGA方法，即利用厚胶光刻产生掩模，然后进行质子束深度刻蚀、显影获得微结构。根据TRIM96程序进行模拟计算，该方法可以获得深度达数毫米、深宽比为30以上的微结构。利用通常的LIGA工艺制备了质子束深度刻蚀的掩模。在高能所35MeV质子加速器上进行曝光试验，结果表明，采用PMMA光刻胶具有足够的灵敏度。