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在上期本专栏的《掩膜版寿命受到的雾状缺陷限制》一文中，我们讨论了掩膜版上雾状缺陷的主要类型和曝光波长为193和248nm时的掩膜版寿命。而在此我们将讨论雾状缺陷问题的严重程度．并对控制这类缺陷所需的努力进行评估。
雾状缺陷问题是可以解决的
【摘 要】
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在上期本专栏的《掩膜版寿命受到的雾状缺陷限制》一文中，我们讨论了掩膜版上雾状缺陷的主要类型和曝光波长为193和248nm时的掩膜版寿命。而在此我们将讨论雾状缺陷问题的严重
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2007年5期
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