TiN涂层的工艺分析

来源 :南昌大学学报:工科版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mdtuyen
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本文在不同工艺条件下进行多弧离子镀TiN涂层。利用扫描电镜、X射线衍射仪、M-200磨损试验机以及显微硬度计等,对TiN涂层的表面形貌、组织结构和性能进行了分析,揭示了弧靶磁场氮分压等工艺对TiN涂层组织结构性能的综合影响。
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