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论述了磁控共溅射法在透明导电ITO薄膜中掺杂其他的金属材料的重要性，综述了采用该方法在ITO薄膜上掺杂Zn、Ag、Mn等金属材料后，薄膜光谱透射率的变化，并且对掺杂之后ITO薄膜的结晶情况、微观机理的变化、导电性能与光谱透射特性的内在联系进行归纳总结。
共溅射法金属掺杂透明导电ITO薄膜的研究进展
【摘 要】
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论述了磁控共溅射法在透明导电ITO薄膜中掺杂其他的金属材料的重要性，综述了采用该方法在ITO薄膜上掺杂Zn、Ag、Mn等金属材料后，薄膜光谱透射率的变化，并且对掺杂之后ITO薄膜的
【机 构】
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韩山师范学院物理与电子工程系
【出 处】
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韩山师范学院学报
【发表日期】
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2013年6期
【基金项目】
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韩山师范学院青年科学基金项目（项目编号：LQ101104）.
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