Study on the Performance of PECVD Silicon Nitride Thin Films

来源 :防备技术：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yeshi804883653

【摘要】

：

Mechanical properties and corrosion resistance of Si3N4 films are studied by using different experiment parameters, such as plasma enhanced chemical vapor depos

【作者】

：

LIU Liang LIU Weiguo CAO Na CA

【机构】

：

SchoolofOptoelectronicEngineering

【出处】

：

防备技术：英文版

【发表日期】

：

2013年2期

【关键词】

：

electron technology silicon nitride stress inductively coupled plasma etch rate

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Mechanical properties and corrosion resistance of Si3N4 films are studied by using different experiment parameters, such as plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD) RF power, ratio of reaction gas, reaction pressure and working temperature. The et

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