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本文报道了采用RF磁控溅射制备出了高性能的Fe-N薄膜，膜厚约200nm，磁场热处理后薄膜中含有α′和少量γ ′，具有优质的软磁性能，饱和磁化强度2.4T，高于纯铁的，矫顽力小于80A/m，2～10MHz下的磁导率为1500。然后提出一个模型，合理的解释了磁场热处理后薄膜表面的各向异性现象，包括不同方向的磁滞回线，剩磁比，矫顽力等。