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90nm CMOS工艺高速锁相环设计与优化

来源 :北京理工大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：guipian110

【摘 要】

：

基于TSMC90nm CMOS工艺设计了一款高速锁相环.为优化锁相环整体的相位噪声及参考杂散性能,分析了差分电荷泵和LC压控振荡器的相位噪声,并且讨论了多模分频器的设计方法.高速

【作 者】

：

王征晨 王兴华 仲顺安 

【机 构】

：

北京理工大学信息与电子学院

【出 处】

：

北京理工大学学报

【发表日期】

：

2018年1期

【关键词】

：

锁相环 电荷泵 LC压控振荡器 相位噪声 phase-locked loop charge pump LC voltage controlled oscilla 

【基金项目】

：

国家自然科学基金资助项目（61301006）

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基于TSMC90nm CMOS工艺设计了一款高速锁相环.为优化锁相环整体的相位噪声及参考杂散性能,分析了差分电荷泵和LC压控振荡器的相位噪声,并且讨论了多模分频器的设计方法.高速锁相环的整体芯片版图面积为490μm×990μm.测试结果表明,在频偏1MHz处的相位噪声为-90dBc,参考杂散为-56.797dBc.

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