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通过改变UV照射时间、照射后的操作速度、光复活时的温度、时间和光强度,以光复活和暗处理后细胞存活数的比值为依据,研究了不同条件下E.coli受UV照射后的光复活效应。并以E.coli对5μg/ml链霉素抗性突变率为指标,比较了不同剂量UV照射后光复活和暗处理对E.coli突变率的影响。结果表明:光复活效应在温度10℃时最明显,且与照射时间、照射后的操作速度、光复活时间和光强度成正相关;在中、低剂量UV照射后,暗处理较光复活后E.coli对链霉素抗性突变率明显高,而在高剂量下,光复活则显著高于暗处理后的突变