【摘 要】
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在室温、超高真空条件下，采用Ar离子溅射沉积的方法在清洁金属铀表面沉积铝薄膜，并利用X射线光电子能谱分析技术原位观察铝薄膜的生长行为。结果表明，在薄膜生长过程中，铀铝界面
【机 构】
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表面物理与化学国家重点实验室,中国工程物理研究院
【基金项目】
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中国工程物理研究院基金资助项目(2006R0806)
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在室温、超高真空条件下，采用Ar离子溅射沉积的方法在清洁金属铀表面沉积铝薄膜，并利用X射线光电子能谱分析技术原位观察铝薄膜的生长行为。结果表明，在薄膜生长过程中，铀铝界面存在较明显的互扩散行为，同时发生一定程度的相互作用，生成金属间化合物UAlx，导致铀、铝XPS特征谱发生明显变化。铀铝间的互扩散导致U 4f谱在380.4、392.7和404.2 eV处出现新的能量损失峰；而铀铝金属间化合物的生成导致Al 2p XPS谱峰向低能端偏移0.2 eV。随沉积时间的增加，能量损失峰强度逐渐增强，Al 2p峰逐
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