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本文利用射频磁控溅射法，以高纯N2、Ar混合气体为溅射气体，用高纯石墨靶在Si（100）基片上制备出掺氮的类金刚石薄膜（DIE：N）。拉曼光谱（Raman）测试表明该薄膜仍然是类金刚石结构，对其进行拟合后得两个特征峰，分别是在1342．9cm^-1的D峰和1555．3cm^-1的G峰，ID／IG=0．45；X射线光电子能谱（XPS）表明薄膜含氮量为24％，XPS光谱的C1s和N1s的芯能级证实了薄膜中的碳氮进行了化合，形成了C-N、C=N、C≡N，说明薄膜中形成了非晶碳氮结构；傅里叶变换红外透射光谱（FT