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为研究磁过滤阴极弧制备的四面体非晶碳(tetrahedral amorphous carbon,ta-C)膜在自然环境中使用的热稳定性,将ta—C膜在空气中退火3h,退火温度分别为200、400和500℃.用XPS和Raman谱对膜的微观结构进行表征.结果表明,在400及400℃以下退火,XPS谱Cls峰和Raman谱都没有明显变化.当退火温度为500℃时,Cls峰峰形仍然没有变化;Raman峰ID/IG增大,G峰峰位未变,峰的对称性变好.分析显示膜中石墨颗粒长大,但没有发生石墨化.说明磁过滤阴极弧制备的