利用光散射现象的晶格缺陷无损检测法

来源 :激光与光电子学进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tang355402
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硅、石英等一些高质量的人造晶体材料,在当前迅速发展的电子技术中,起着重要作用。而且随之而来发现了评定晶体特性的各种方法。其中许多是用电子束或X射线的方法,最近由日本学习院大学的小川教授和守矢助教提出的利用光散射现象的缺陷观察法,很受人们的重视。
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