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本文用热丝 CVD 法在氮化硅复合陶瓷及 Sialon 陶瓷上沉积了金刚石薄膜,用 X 射线衍射、拉曼光谱、扫描电子显微镜、表面形貌仪、划痕实验仪对所形成的膜及基体进行了分析。初步探讨了膜与基材的附着性影响因素。
氮化硅及Sialon陶瓷基材上金刚石膜的沉积
【摘 要】
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本文用热丝 CVD 法在氮化硅复合陶瓷及 Sialon 陶瓷上沉积了金刚石薄膜,用 X 射线衍射、拉曼光谱、扫描电子显微镜、表面形貌仪、划痕实验仪对所形成的膜及基体进行了分析。
【机 构】
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中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所博士生,沈阳市110015
【出 处】
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材料科学进展
【发表日期】
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1992年1期
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