【摘 要】
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利用恒电流电沉积技术,首先通过“气泡模板”辅助在纯Ti片表面沉积多孔Cu,再沉积Co–W合金,获得了Co–W/多孔Cu镀层。经过电化学测试发现:该Co–W/多孔Cu镀层在1 mol/L NaOH
【基金项目】
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国家重点研发计划(2018YFE0306105);江苏省大学生创新创业训练计划(201610285107H)
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利用恒电流电沉积技术,首先通过“气泡模板”辅助在纯Ti片表面沉积多孔Cu,再沉积Co–W合金,获得了Co–W/多孔Cu镀层。经过电化学测试发现:该Co–W/多孔Cu镀层在1 mol/L NaOH溶液中展现出优异的析氢反应活性,其析氢反应动力学过程受Heyrovsky反应步骤控制。在较高的阴极过电位下,Co–W/多孔Cu镀层的阴极电流密度可超越金属铂片。所获得的样品中,W含量为17.2%(质量分数)左右的样品具有最强的析氢反应活性,其表观交换电流密度为1.62×10^-4 A/cm^2。
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