【摘 要】
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美国伊利诺大学(University of Illinois)实验室开发出一种以金属为蚀刻催化剂的砷化镓晶圆蚀刻法,这种蚀刻方法,其制造速度较传统的湿式蚀刻制程来得快、而成本又较干式蚀刻
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美国伊利诺大学(University of Illinois)实验室开发出一种以金属为蚀刻催化剂的砷化镓晶圆蚀刻法,这种蚀刻方法,其制造速度较传统的湿式蚀刻制程来得快、而成本又较干式蚀刻来得低,一旦该制程获得推广,可望有效推进用以生产太阳能砷化镓产品的商业应用技术。
The University of Illinois has developed a gallium arsenide wafer etching method using a metal as a catalyst for etching, which is faster in fabrication speed than the conventional wet etching process and at a lower cost Dry etching is low, and once the process is rolled out, it is expected to be an effective catalyst for commercial applications of solar gallium arsenide products.
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