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高频辅助溅射沉积及氩气压对Co/Cu磁性多层膜结构和性能的影响
高频辅助溅射沉积及氩气压对Co/Cu磁性多层膜结构和性能的影响
来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wlj190151
【摘 要】
:
磁控溅射制备薄膜时,工作气体氩气的压强是一个非常重要的参量,氩气压的高低直接影响薄膜的结构形态,这在制备超薄多层膜过程中显示更为重要。
【作 者】
:
王辉
金庆原
褚沉
徐新民
邢中菁
沈元华
李富铭
【机 构】
:
复旦大学三束材料改性国家?
【出 处】
:
真空科学与技术
【发表日期】
:
1997年5期
【关键词】
:
射频磁控溅射
氩气压
多层膜
镀膜
RF magnetron sputter
Argon pressure
Multilayer film
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磁控溅射制备薄膜时,工作气体氩气的压强是一个非常重要的参量,氩气压的高低直接影响薄膜的结构形态,这在制备超薄多层膜过程中显示更为重要。
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