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期刊论文
溅射条件对SiO2膜力学特性的影响
溅射条件对SiO2膜力学特性的影响
来源 :沈阳工业大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:airfly
【摘 要】
:
介绍了在不锈钢衬底和Ni-Cr应变电阻间SiO2薄膜的制做方法,在不宜用热氧化和CVD法制做SiO2膜的情况下,利用该法是行之有效的,探讨了溅射工艺条件对膜附着力和应力的影响,并拽出了制备具有较好附着
【作 者】
:
孙承松
魏永广
【机 构】
:
沈阳工业大学信息科学与工程学院
【出 处】
:
沈阳工业大学学报
【发表日期】
:
1999年3期
【关键词】
:
溅射
力学特性
二氧化硅
薄膜
附着力
sputtering
SiO2 thin film
dynamic property
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介绍了在不锈钢衬底和Ni-Cr应变电阻间SiO2薄膜的制做方法,在不宜用热氧化和CVD法制做SiO2膜的情况下,利用该法是行之有效的,探讨了溅射工艺条件对膜附着力和应力的影响,并拽出了制备具有较好附着力和氏应力的方法。
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