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无论是在考虑技术节点还是未来技术时，通常有一点都是肯定的：当前的解决方案在实在不能再用之前始终都是最好的。因此，尽管光刻业者可能正在追求浸没式或极紫外光刻等下一代技术，他们仍将尽可能地延长干法光刻的使用时间。
曝光后缩小技术突破先进壁垒
【摘 要】
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无论是在考虑技术节点还是未来技术时，通常有一点都是肯定的：当前的解决方案在实在不能再用之前始终都是最好的。因此，尽管光刻业者可能正在追求浸没式或极紫外光刻等下一代技术
【机 构】
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SemiconductorInternational执行主编
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2007年10期
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