直流电沉积纳米晶铁-镍-铬合金箔工艺、性能及其机理研究

来源 :纳米技术与精密工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:bendanlxq
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在含三价铬的水溶液中,以氨基乙酸(gly)为配位剂,直流电沉积制备出Fe-Ni-Cr合金箔,研究了电流密度、铬盐浓度对合金箔成分的影响;采用扫描电子显微镜和X射线衍射对合金箔进行表征,并对合金箔的各项性能进行了研究;采用电化学方法对铬电沉积机理进行初探.确定直流电沉积Fe-Ni-Cr合金箔的最佳工艺条件为:电流密度为15A/dm2,铬盐质量浓度为50 g/L,温度为60℃,pH值为1.5.在此条件下可获得厚度为20~30 μm光亮、无裂纹的合金箔,其中Cr、Fe和Ni的质量分数分别为4%~6%、60%~65%、30%~35%.合金箔微观形貌为紧密堆砌的不规则板块状小晶粒;合金箔为纳米晶结构,晶粒尺寸在纳米范围内,主相是Cr与α-Fe或γ-Fe形成的间隙固溶体;合金箔中Cr含量提高,硬度、电阻及耐蚀性均随之提高.通过理论计算gly-Cr3+还原沉积的标准活化能为35.6kJ/mol,该过程由电子转移步骤控制.
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