线列熔融石英微透镜阵列的光刻和氩离子束刻蚀制备

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采用光刻和熔融成形法制备线列长方形拱面光致抗蚀剂微透镜图形,采用固化技术对其作重整化处理,采用氩离子束刻蚀有效地实现线列长方形拱面光致抗蚀剂微透镜图形阵列向熔融石英基片上转移。所制单元熔融石英微透镜底的部外形尺寸为300×95μm^2,平均冠高14.3μm,平均曲率半径为86μm,平均焦距为258.1μm,平均F/数2.7,平均T/数2.9,平均光焦度5.8×10^-3折光度。
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