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将目前电子陶瓷工业中采用的普通烧结方法，通过加快进窑速度和提高烧结区提高，改为快速烧结方法，进行速度为原来的６倍，烧结温度在原有温度的基础上提高２５－３０℃，使用典型有的高平面镁镧钛介质瓷和低频钛酸钡介质瓷进行试验验证，结果发现这两种介质瓷的性能均得到了提高。
快速烧结新技术
【摘 要】
：
将目前电子陶瓷工业中采用的普通烧结方法，通过加快进窑速度和提高烧结区提高，改为快速烧结方法，进行速度为原来的６倍，烧结温度在原有温度的基础上提高２５－３０℃，使用典型有的高平面镁镧钛
【机 构】
：
清华大学材料科学与工程系
【出 处】
：
中国陶瓷
【发表日期】
：
1997年6期
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