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采用射频磁控溅射法在石英玻璃和不锈钢基底上沉积SiNx薄膜，以SEM和AFM观察薄膜的表面形貌，检测粗糙度和颗粒度大小对薄膜表面形貌动态演化进行量化表征。结果表明：石英玻璃基片SiNx薄膜较不锈钢基片薄膜更为均匀致密，且颗粒更为细小；真空退火处理有利于细化SiNx薄膜颗粒，减小其表面粗糙度；在溅射功率为125～175W范围内，SiNx薄膜颗粒平均直径高达41．0nm，其rms以及颗粒度在75W时受氩气溅射压强的影响大。