【摘 要】
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用大功率(kW级)CO_2激光在金属基材上通过化学气相沉积获得α-Si_3N_4膜。膜层多为细小的Si_3N_4颗粒组成,与基材有良好的结合,具有超硬和优良的耐磨抗蚀等性能,厚度在5—30
【机 构】
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中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所 副研究员,沈阳(110015)
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用大功率(kW级)CO_2激光在金属基材上通过化学气相沉积获得α-Si_3N_4膜。膜层多为细小的Si_3N_4颗粒组成,与基材有良好的结合,具有超硬和优良的耐磨抗蚀等性能,厚度在5—30μm范围内可控。
The α-Si_3N_4 film was obtained by chemical vapor deposition on a metal substrate with high-power (kW-rated) CO_2 laser. Film mostly composed of small Si_3N_4 particles, and the substrate has a good combination of superhard and excellent wear resistance and corrosion resistance and other properties, the thickness of 5-30μm within the controllable.
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