薄膜厚度对多层膜巨磁阻抗效应的影响研究

来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：sunshinexpsister

【摘要】

：

采用磁控溅射方法在玻璃基片上制备了FeSiB/Cu/FeSiB多层膜,在100kHz～40MHz范围内研究了FeSiB薄膜厚度对FeSiB/Cu/FeSiB多层膜巨磁阻抗效应的影响.当磁场施加在薄膜的纵向时,

【作者】

：

周勇丁文陈吉安高孝裕王明军张亚民

【机构】

：

上海交通大学微纳米科学技术研究院

【出处】

：

功能材料与器件学报

【发表日期】

：

2004年2期

【关键词】

：

巨磁阻抗效应非晶FeSiB薄膜 FeSiB/Cu/FeSiB多层膜薄膜厚度 giant magnetoimpedance amorphous FeSiB f

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采用磁控溅射方法在玻璃基片上制备了FeSiB/Cu/FeSiB多层膜,在100kHz～40MHz范围内研究了FeSiB薄膜厚度对FeSiB/Cu/FeSiB多层膜巨磁阻抗效应的影响.当磁场施加在薄膜的纵向时,巨磁阻抗效应随磁场的增加而增加,在某一磁场下达到最大值,然后随磁场的增加而下降到负的巨磁阻抗效应.当FeSiB薄膜的厚度为1.8μm时,在频率3.2MHz、磁场2.4kA/m时,多层膜巨磁阻抗效应达最大值13.5%;在磁场为9.6kA/m时,巨磁阻抗效应为-9.2%.然而,当FeSiB薄膜的厚度为1μ

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