【摘 要】
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通过分析总剂量辐照产生的界面陷阱的施主和受主性质,用半导体器件模拟软件Medici模拟了NMOS、PMOS器件加电下辐照后的特性.结果表明,对于NMOSFET,费米能级临近导带(N沟晶体
【机 构】
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西安电子科技大学微电子所,西安电子科技大学微电子所,西北核技术研究所
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通过分析总剂量辐照产生的界面陷阱的施主和受主性质,用半导体器件模拟软件Medici模拟了NMOS、PMOS器件加电下辐照后的特性.结果表明,对于NMOSFET,费米能级临近导带(N沟晶体管反型)时,受主型界面态为负电荷,施主型界面态陷阱为中性,使界面态陷阱将引起的阈值电压漂移;而对PMOSFET,当费米能级临近价带(P沟晶体管反型)时,施主型界面态陷阱带正电荷,受主型界面态陷阱为中性,界面态陷阱将引起负的阈值电压漂移.理论模拟的转移特性与测试结果吻合.文中从器件工艺参数出发,初步建立了总剂量电离辐照模型,
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